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巖芯孔隙率測試儀計算公式

更新時間:2022-11-11      瀏覽次數(shù):1129

       材料的孔隙率是指材料內(nèi)部孔隙的體積占材料總體積的百分率,以P表示。孔隙率的測定是基于阿基米德原理,試驗中采用水煮法測定電極的孔隙率。首先稱量需要的試樣干重,記為m0;將稱量完地試樣放入干凈的燒杯中,往杯中注入蒸餾水,直至淹沒試樣。接著將燒杯置于電爐上加熱至沸騰,并保持沸騰狀態(tài)2h,使蒸餾水*滲透至TiO2電極中的空隙內(nèi)。然后停止加熱使其降至室溫。接著把試樣快速取出放入事先準備好稱重用的小吊藍內(nèi),將其掛在天平的吊鉤上,使試樣繼續(xù)浸沒于水中,稱取飽和試樣在水中的懸浮重,記為m1;將飽和試樣取出,用濕抹布小心地拭去飽和試樣表面的水,快速稱量飽和試樣的質(zhì)量,記為m2。通過公式算出電極的孔隙率P。P=(m2-m0)/(m2-m1)。

  孔隙率的測定
  鍍層的孔隙是指鍍層表面直至基體金屬的細小孔道。鍍層孔隙率反映了鍍層表面的致密程度,孔隙率大小直接影響防護鍍層的防護能力(主要是陰極性鍍層)。作為特殊性能要求的鍍層(如防滲碳、氮化等),孔隙率測量也極為重要,它是衡量鍍層質(zhì)量的重要指標。國家標準GB 5935規(guī)定了測定鍍層孔隙的方法有貼濾紙法、涂膏法、浸漬法、陽極電介測鍍層孔隙率法、氣相試驗法等。電鍍專業(yè)國家標準中,孔隙率試驗的標準為:GB/T l7721—1999金屬覆蓋層孔隙率試驗:鐵試劑試驗,GB/T l8179--2000金屬覆蓋層孔隙率試驗:潮濕硫(硫化)試驗。


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